Ioniranje koristi pražnjenje plina u uvjetima vakuuma za ionizaciju plina ili isparenog materijala. Pod bombardiranjem iona plina ili iona materijala koji isparava, ispareni materijal ili njegovi reaktanti talože se na obratku. To uključuje magnetronsko raspršivanje ionskim oplatama, reaktivnim ionskim oplatama, ionskim oplatama s pražnjenjem šuplje katode (isparavanje šuplje katode) i više-lučnim ionskim oplatama (oplata katodnim lukom). Ioniranje kombinira tehnologiju tinjajućeg pražnjenja i plazme s vakuumskim isparavanjem, značajno poboljšavajući učinak premaza i proširujući njegovu primjenu. Uz dijeljenje prednosti vakuumskog raspršivanja, ionska oplata nudi snažno prianjanje filma, izvrsna svojstva difrakcije i širok raspon materijala za nanošenje.
Posljedično, posljednjih je godina doživio brzi razvoj i na domaćem i na međunarodnom planu. Osnovni princip ionizacije je ionizirati paru metala ili legure pomoću žarenja ili lučnog izboja iz inertnog plina. Ioniranje uključuje zagrijavanje, isparavanje i taloženje materijala za premazivanje (kao što su TiN i TiC).
Kako atomi isparenog premaznog materijala prolaze kroz zonu sjaja, mali dio postaje ioniziran i, pod utjecajem električnog polja, leti prema izratku, udarajući o površinu s energijama od nekoliko tisuća elektron volti. Oni mogu prodrijeti u podlogu do dubine od nekoliko nanometara, značajno poboljšavajući adheziju premaza. Ujedinjeni ispareni atomi materijala izravno se talože na obradak kako bi formirali film. Raspršivanje iona inertnog plina i iona materijala za oblaganje po površini obratka također uklanja onečišćenja, čime se poboljšava prianjanje.
Tehnologije koje koriste strojevi za ionsko vakuumsko premazivanje, strojevi za premazivanje isparavanjem i strojevi za magnetronsko raspršivanje su različite. Ova načela tehnologije premazivanja također imaju svoje prednosti. Različite metode premazivanja mogu se odabrati prema predmetu premazivanja i sloju filma kako bi se zadovoljila potražnja na tržištu.
